溅射离子泵：高压电场加速电子电离气体，正离子被钛阴极捕获，钛受轰击溅射形成薄膜吸附残余气体，量程 10⁻³~10⁻¹¹Pa，无油洁净；
升华离子泵：加热钛源使其升华，钛膜主动吸附气体，配合电离捕集惰性气体，量程 10⁻⁵~10⁻¹²Pa，极限真空更高；
复合型离子泵：融合溅射与升华技术，兼顾抽速与极限真空，量程 10⁻⁴~10⁻¹²Pa，适配多气体成分场景。
真空设备配套：为涡轮分子泵、真空腔室后续抽气，保障系统极限真空；监测残余气体，判断真空系统是否漏气；
科研实验：为粒子加速器、核聚变装置构建 10⁻⁸Pa 以下超高真空，减少干扰；为 TEM/SEM、表面物理实验提供洁净真空，提升精度；
工业生产：半导体光刻、离子注入中维持洁净真空，避免杂质影响芯片制程；光学镀膜（激光镜片、航天元件）中保障膜层质量；
航天军工：模拟太空 10⁻¹⁰Pa 以下真空，测试航天器部件；为红外探测器、精密传感器提供真空封装，确保稳定性。
