以动能传递为核心，通过高速旋转的动叶轮（最高转速 90,000 转 / 分，外缘线速度 150-400 米 / 秒），将动能传递给气体分子，使其从无序热运动转为定向流动；配合交替排列的静叶轮（间隙仅 1 毫米），实现气体从进气口向排气口输送。需与前级真空泵（工作压力 1-10⁻²Pa）协同，在分子流状态下发挥高真空获取能力。
- 半导体制造：保障光刻、离子注入等工艺的高真空环境，避免杂质污染，确保芯片精度与性能；
- 科学研究：为加速器、电子显微镜等提供 10⁻⁸Pa 以下超高真空，降低实验干扰；
- 真空镀膜：维持稳定真空，减少薄膜缺陷，提升光学、耐磨性能；
- 本公司除气炉设备：
- 应用于不锈钢精密工件（如航空连接件）除气，将炉内真空度稳定在 10⁻⁶Pa 以下，去除 H₂、O₂等残留气体，使材料气体残留量≤5ppm；
- 相比传统系统，设备洁净度提升 10 倍、除气效率提高 30%，工件良品率从 92% 升至 99.5%，获高端制造客户复购。
涡轮分子泵类目：
控制器涡轮分子泵
真空涡轮分子泵
一体化涡轮分子泵系统
模块化涡轮分子泵系统
